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30/03/2011
LAEIS annuncia il successo delle presse Alpha 4200, Alpha 800 e PH6500 per la produzione di sputtering targets

Alpha Ceramics produrrà la polvere atomizzata per questa applicazione.

Gli sputtering targets sono impiegati nel rivestimento in PVD (Physical Vapor Deposition ovvero deposizione fisica da vapore) come fonte di materiale da rivestimento, che grazie al bombardamento con particelle ad alta energia passa allo stato gassoso e successivamente viene depositato in sottilissimi strati su differenti superfici. Con questo metodo è possibile realizzare rivestimenti con speciali proprietà ottiche, elettriche od altre caratteristiche, per esempio su schermi al plasma di grandi dimensioni, displays di laptops, telefoni cellulari o vetro architettonico.

Con l’Alpha 4200, che ha una forza massima di pressatura di 42000 kN (=4200 t), è possibile pressare grandi sputtering targets di densità uniforme, di dimensioni fino a 1600 mm di lunghezza e 500 mm di larghezza, ma con soli 8-14 mm di spessore.

Mentre la PH 6500 con una forza di pressatura di 6500 t può produrre sputtering targets ancora più grandi, fino a circa 0.8 m².

L’Alpha 800 (forza di pressatura = 800 t) viene utilizzata invece per la produzione di sputtering targets di dimensioni più piccole.

I materiali da utilizzare sono ossido di indio drogato con stagno (ITO), ossido di zinco drogato con alluminio (AZO) ed altri. Sia la polvere AZO per quest’applicazione che i supporti per il processo di cottura possono essere prodotti dalla consociata della Laeis, Alpha Ceramics ad Aachen.
Grazie alle numerose presse per questa applicazione già vendute a diversi clienti in Corea nel corso degli ultimi anni, ora tutti i principali produttori di sputtering targets in Corea si affidano alla tecnologia di formatura Laeis ed altri produttori nell’Asia Orientale, in Europa e negli Stati Uniti sono sulla stessa scia.
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